等离子体清洗是运用活性粒子的物理化学效果，或与物体外表的污染物发生反响生成可蒸发的物质，或高能量炮击去除外表污染物，因为不运用强酸、强碱等溶液，工艺简略、经济环保。等离子体清洗机发生等离子体的办法和设备结构也不断改进和开展，从开始的直流辉光放电，到中期的射频等离子体，再到微波等离了体、脉冲等离子体，形成了品种完全的等离子体清洗系列产品，逐步成为工业清洗中十分受欢迎的工艺。
发生等离子体的景象有很多种，首要归纳为两类:一类是天然界中发生的等离子体，比方地球高空中的等离子体层天然发生的等离子体；另一类是人工发生等离子体，也便是说运用外界能量使气体分子、原子发生电离，而且不需要将一切的分子、原子都电离成电子、离子。
其间，人为发生等离子体最为便利的办法是将两极板经过射频电压源来驱动，当施加的电压足够大时，就可击穿气体，使得电流可在两极板间活动，这之间的低压气体放电发生等离子体。它的原理是:在超低压环境下，游离于气体中的自由电子在射频电场的效果下被加快成高能电子，然后与其他气体分子发生磕碰使其电离，然后电离出的电子又与其他的气体分子发生磕碰，形成连锁磕碰反响，终究发生很多的等离子体。当外加的电压大于气体分子的击穿电压时，在等离子体发生器的腔室中能够接连发生等离子体。
等离子体清洗机根据其放电形式的不同分为电感耦合等离子体(ICP)、电容耦合等离子体(CCP)及微波等离子体。其间，微波等离子体因其极高的电源频率而很少被运用，所以咱们仅对ICP和CCP进行简略的阐明。
1884年，希托夫在真空管外绕了一圈线圈，然后用莱顿瓶激起线圈，调查到了放电的现象，这也是ICP前期研讨的雏形，如图1-1所示，它的原理是当有高频电流经过ICP设备中的线圈时，发生轴向磁场，磁场再在圆柱形腔室内发生感生电场，在低压环境下，气体中的电子被加快，发生一连串磕碰，终究发生等离子体。
ICP的特色是结构简略，在反响腔室内不安顿电极，其运用的射频电源一般为0.5MHz的低频电源或13.5MHz的中频电源，这样发生的等离子体密度较高，因此且有较高的的化学活性，被广泛使用于半导体工艺生产中。
CCP的作业原理与ICP不同(如图1-2所示)，在CCP反响器中，将两极板与射频电源相连接，并在两平行金属极板之间通入气体，当施加的电压大到能够击穿所通的气体，电流就会在两金属极板之间活动，形成气体放电的现象，然后发生了等离子体。CCP的优势是体积小，两金属极板之间的间隔只要几厘米，等离子体密度较低，具有安稳、均匀的特色，因此被广泛运用在资料外表清洗和半导体刻蚀工艺过程中。
以上便是深圳等离子体清洗机厂家纳恩科技收拾的有关等离子体清洗机设备发生等离子的办法介绍资料。等离子体清洗机首要运用的是等离子体的物理以及化学效果，是现在工业上使用比较广泛的干法清洗办法之一，现在低温等离子体在资料外表改性、清洗等工业和科研范畴已取得广泛的使用。
