咱们可以正常的看到， 上面这张《我是我国芯》的剧照，左上角有几个钢瓶，钢瓶前面是一台一般的光纤激光机。
这种光纤激光打标机的电路板，和上面剧照里的电路板很相似。那么DUV光刻激光的电源操控板是啥样子的呢？咱们今日就来看一下。
咱们仍是看看上一篇说到的安徽光机所完结的我国02专项的DUV“双腔同步全固化激光电源”。担任这项技能攻关的是安徽光机所研究员方晓东。
2020年7月7日，安徽光机所主页刊登文章《安光所获安徽省2019年度技能创造一等奖》，其间说到，2020年6月29日，安徽省科技奖颁奖大会在合肥举行，“面向半导体集成电路光刻的准分子激光鼓励源技能及使用”的安光所方晓东准分子激光团队取得安徽省2019年度技能创造一等奖！
成功研制了4kHz全固化脉冲放电鼓励体系并使用于首台国产90nm光刻机光源！
在2019年度安徽省科技奖提名项目公示材料里，也介绍了方晓东团队的项目《高性能准分子激光鼓励源技能和能量安稳操控技能及使用》。
这个获奖项目的效果包含了多个视点，其间第一项便是“高重频全固化脉冲放电鼓励技能”，其目标如下：
4kHz高重频运转下的放电峰值电压到达20.2kV, 脉冲上升时间61.7ns，运转寿数进步3个数量级，突破了准分子激光器高重频和长寿数作业的技能瓶颈。
方晓东团队研制的DUV光刻电源取得了杰出的用户反映，并用于193纳米ArF光刻光源的产业化开发：
北京科益虹源光电技能有限公司根据我国科学院合肥物质科学研究院承当完结的“20W 4kHz ArF曝光光源研制”全体技能展开ArF曝光光源产品化研制及产业化推行作业，公司使用该技能请求获批国家科技严重专项等项目继续支撑，并完成ArF曝光光源产品销售。
2019年4月，方晓东研究员宣布的文章《全固态高压脉冲电源在半导体光刻光源中的使用》，便回忆了这样的范畴的开展以及中科院安徽光机所的研究作业。
这篇文章里介绍了咱们之前说过的美国Cymer的双腔全固态脉冲电源体系，以及Cymer在2000年将全固态脉冲电源体系用于放电等离子体EUV光源技能的开发。
之后，文章介绍了方晓东团队开发的双腔全固态脉冲电源，下图便是获奖项目的电源电路图。
方晓东的论文展现了准分子激光4kHz双腔固态电源的作业上的才能--它奠定了DUV光刻光源的作业根底之一。
方晓东团队开发DUV光刻光源的电源体系的研制人员都是谁呢？团队开发这一个项目又有多少风趣的故事呢？咱们下篇接着聊！
